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勻膠旋涂儀有一個或多個滴膠系統，可涂不同品種的光刻膠。滴膠的方式有晶片靜止或旋轉滴膠。隨著晶片尺寸的增大，出現了滴膠或膠口移動式滴膠。膠膜厚度一般在500-1000nm，同一晶片和片與片間的誤差小于±5nm。滴膠泵有波紋管式和...

隨著社會的發展及技術的需要，工業生產對生產材料的要求也不斷增強，如在微電子封裝工藝中，電子設備的小型化、高精度，對封裝工藝的可靠性提出了相應的要求，高質量的封裝技術可以提高電子產品的使用壽命。等離子清洗機是利用等離子體來達到常規清洗方法無法...

等離子體是由被剝奪部分電子后的原子及原子團電離產生的離子化氣體狀物質，具有比氣態、液態、固態物質都高的能量范圍，被稱為物質的第四態。等離子體是由離子、電子和中性粒子組成的中性集合體，在與材料表面撞擊時會將自己的能量傳遞給材料表面的分子和原子...

石墨消解儀具有消解快速、方便等優點，適用于農業、林業、環保、化工、食品、醫藥、生化等行業以及高等院校、科研部門對土壤、食品飼料、植株、種子、礦石等化學分析之前的樣品消解處理。石墨消解儀的核心部件是一塊預先制作了若干孔位的石墨塊，石墨塊上預制...

高壓消解罐又叫水熱合成反應釜，是化學實驗室常用的小型高壓消解反應器。主要用于快速消解難溶樣品，也可用于少量的合成反應。在密閉環境中，樣品在強酸強堿和高溫高壓同時作用下達到快速消解之目的。高壓消解罐是利用罐體內高溫高壓密封體系(強酸或強堿)的...

勻膠旋涂儀一般包括托盤安裝于腔室內部，用于吸附基片；噴嘴，延伸入腔室內部，用于將去離子水、有機溶劑或光刻膠噴射到基片上；微波發生裝置，安裝于腔室側壁，用于產生微波對基片提供熱量；溫控系統，安裝于腔室上壁，用于控制微波發生裝置以設定微波加熱的...

勻膠旋涂儀操作簡單，結構小巧緊湊，占地空間小，為實驗室提供了理想的解決方案。可用于實驗室項目建設.作為用于除半導體外,還有硅片、芯片、基片、導電玻璃及制版等表面涂覆工藝，科研、教學之用。勻膠旋涂儀的使用注意事項：1.使用前主要檢查設備與真空...

紫外臭氧清洗機提供一種簡單，經濟,快速獲得超潔凈的表面，去除大多數無機基材(比如石英,硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等)上的有機污染物。作用是通過紫外光和臭氧將襯底表面的油脂和有機物氧化祛除，以達到清潔的效果。同時改變了襯底表面的親疏水性...